华测仪器Huace-800G真空晶圆退火炉

价格仅供参考，如需获取更详尽的产品技术规格书、定制方案或应用案例，欢迎致电我司技术工程师

Huace-800G真空晶圆退火炉由华测仪器生产，推出了采用高准度、高反射率抛物面搭配高性能加热源的解决方案，在升降温过程中仍能保持稳定均匀的温度场，可实现宽范围均热区、高速加热与高速降温。样品由石英管保护，无气氛污染，更适合半导体工艺使用。设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。反射镜主要分为圆形和抛物线型两种，可满足不同材料在不同温度控制条件下的测试需求。

产品参数

产品型号：Huace-800G/Huace-1200G/Huace-1450G

产品尺寸：6寸晶圆或150 x 150mm产品

温度范围：RT ~ 800/1200/1450°C

升温速度：＜100℃/s可编程（此温度不含载盘的升温速度）

                  ＜25℃/s（SiC载盘）

温度均匀度：±5 °C ≤ 500 ℃

±1 % > 500 ℃

温度控制重复性：±1 °C

温控方式：PID 温控

应用领域

电子材料

半导体用硅化合化的PRA(加热后急速降温)

陶瓷与无机材料

半导体用硅化合化的PRA(加热后急速降温)

钢铁和金属材料

薄钢板加热过程的数值模拟

其他

高温拉伸压缩试验炉