华测仪器Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统

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Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统由华测仪器生产，是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。反射镜主要分为圆形和抛物线型两种，可满足不同材料在不同温度控制条件下的测试需求。

产品优势

高速加热与降温方式

高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体降温装置，可实现快速冷却。

温度高准度控制

过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以准确控制样品的温度(远比普通加温方式)。此外，降温速度和保持在不同温度下可提供高准度

不同环境下的加热与降温

加热/降温可用真空、气氛环境、低温(高纯度性气体 静态或流动)操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传到加热/ 降温室。

产品参数

产品型号：Huace-1200G

产品尺寸：6寸晶圆或150 x 150mm产品

温度范围：RT~1200°C

升温速度：＜25℃/s（SiC载盘）

温度均匀度：±5 °C ≤ 500 ℃ 

温度控制重复性：±1 °C

温控方式：PID 温控